光刻片十大品牌排行榜
光刻片十大品牌排行榜，前十名分别是佳能/Canon、苏大维格、尼康/NIKON、阿斯麦/ASML、上海微电子、JSR、芯碁微装、Dongjin 。您是否在查找哪个光刻片牌子好？我们根据用户口碑推荐光刻片十大品牌榜供您选择，榜单品牌均由用户点赞率、关注度、投票选出的光刻片品牌排行榜前十名。
- 更新时间：2024-12-25
光刻片十大品牌排行榜，前十名分别是佳能/Canon、苏大维格、尼康/NIKON、阿斯麦/ASML、上海微电子、JSR、芯碁微装、Dongjin 。您是否在查找哪个光刻片牌子好？我们根据用户口碑推荐光刻片十大品牌榜供您选择，榜单品牌均由用户点赞率、关注度、投票选出的光刻片品牌排行榜前十名。
品牌简介：世界500强企业，日本跨国公司，以专业成像和光学产品为主，包括制造照相机，摄像机，复印机，电脑印刷机和医疗设备。【展开】
品牌简介：苏州苏大维格科技集团股份有限公司是国内领先的微纳结构产品制造和技术服务商,主要为客户提供不同用途微纳光学产品的设计、开发与制造服务。公司主要产品为微纳光学产品、反光材料。公司承担了多项国家级科研项目,并获得国家科学技术进步二等奖,中国优秀专利奖等奖项,具有持续的技术研发创新能力。【展开】
品牌简介：尼康/NIKON成立于1917年。尼康的产品在业界的口碑获得一致好评，其中几款产品特别受大众喜爱，比如：尼康水下照相机、尼克尔（Nikkor）相机镜头等等。尼康不光在数码相机方发展，还生产护目镜，眼科检查设备，双筒望远镜，显微镜，勘测器材。【展开】
品牌简介：ASML Holding N.V.于1994年10月3日在荷兰注册成立。该公司是世界领先的供应商之一（以收入计算），为半导体行业提供先进的技术系统。该公司提供光刻系统的集成组合，主要用于制造复杂的集成电路（“半导体”，“芯片”）。该公司向亚洲，美国和欧洲的集成电路制造商供应光刻系统，也为客户提供全方位的先进工艺和产品应用知识支持服务。【展开】
品牌简介：上海微电子装备(集团)股份有限公司(简称SMEE)主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。公司设备广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造领域。【展开】
品牌简介：成立于1957年，日本半导体品牌，利用半导体芯片制造过程中不可或缺的高分子材料、各种光刻材料、化学机械平坦化（CMP）材料和先进封装材料的开发所培养的技术，液晶显示器（LCD）和有机EL等平板显示器（FPD）制造中使用的各种LCD材料和下一代显示材料，以及用于3D建模的紫外光固化树脂 有许多产品在全球拥有顶级份额。【展开】
品牌简介：专业从事以微纳直写光刻为技术核心的直接成像设备及直写光刻设备的研发、制造、销售以及相应的维保服务，主要产品及服务包括PCB直接成像设备及自动线系统、泛半导体直写光刻设备及自动线系统、其他激光直接成像设备以及上述产品的售后维保服务。【展开】
品牌简介：隶属于韩国株式会社东进世美肯，成立于1967年，韩国半导体品牌，旗下产品有光刻胶、稀释剂、抗反射涂层、发泡剂、研磨剂等。【展开】
